設(shè)備名稱：氧化爐。

設(shè)備功能：為半導(dǎo)體材料進(jìn)行氧化處理，提供要求的氧化氛圍，實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體預(yù)期設(shè)計(jì)的氧化處理過程，是半導(dǎo)體加工過程的不可缺少的一個(gè)環(huán)節(jié)。

主要企業(yè)（品牌）：

國(guó)際：英國(guó)Thermco公司、德國(guó)Centrotherm thermal solutions GmbH Co.KG公司。

國(guó)內(nèi)：北京七星華創(chuàng)、青島福潤(rùn)德、中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十八所、青島旭光儀表設(shè)備有限公司、中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十五所。

5、低壓化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)（LPCVD，Low Pressure Chemical Vapor Deposition System）

設(shè)備名稱：低壓化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)

設(shè)備功能：把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入LPCVD設(shè)備的反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜。

主要企業(yè)（品牌）：

國(guó)際：日本日立國(guó)際電氣公司、

國(guó)內(nèi)：上海馳艦半導(dǎo)體科技有限公司、中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十八所、中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十五所、北京儀器廠、上海機(jī)械廠。

6、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)（PECVD，Plasma Enhanced CVD）

設(shè)備名稱：等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)

設(shè)備功能：在沉積室利用輝光放電，使其電離后在襯底上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，沉積半導(dǎo)體薄膜材料。

主要企業(yè)（品牌）：

國(guó)際：美國(guó)Proto Flex公司、日本Tokki公司、日本島津公司、美國(guó)泛林半導(dǎo)體（Lam Research）公司、荷蘭ASM國(guó)際公司。

國(guó)內(nèi)：中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十五所、北京儀器廠、上海機(jī)械廠。

7、磁控濺射臺(tái)（Magnetron Sputter Apparatus）

設(shè)備名稱：磁控濺射臺(tái)。

設(shè)備功能：通過二極濺射中一個(gè)平行于靶表面的封閉磁場(chǎng)，和靶表面上形成的正交電磁場(chǎng)，把二次電子束縛在靶表面特定區(qū)域，實(shí)現(xiàn)高離子密度和高能量的電離，把靶原子或分子高速率濺射沉積在基片上形成薄膜。

主要企業(yè)（品牌）：

國(guó)際：美國(guó)PVD公司、美國(guó)Vaportech公司、美國(guó)AMAT公司、荷蘭Hauzer公司、英國(guó)Teer公司、瑞士Platit公司、瑞士Balzers公司、德國(guó)Cemecon公司。

國(guó)內(nèi)：北京儀器廠、沈陽中科儀器、成都南光實(shí)業(yè)股份有限公司、中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十八所、科睿設(shè)備有限公司、上海機(jī)械廠。

8、化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)（CMP，Chemical Mechanical Planarization）

設(shè)備名稱：化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)

設(shè)備功能：通過機(jī)械研磨和化學(xué)液體溶解"腐蝕"的綜合作用，對(duì)被研磨體（半導(dǎo)體）進(jìn)行研磨拋光。

主要企業(yè)（品牌）：

國(guó)際：美國(guó)Applied Materials公司、美國(guó)諾發(fā)系統(tǒng)公司、美國(guó)Rtec公司、。

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